美国 Entegris 应特格Wafergard 气体 过滤器 WG3NS8RR2
NTEGRIS应特格公司成立于1966年，总部设在美国马萨诸塞州拜勒瑞卡，在美国、日本和马业西亚等国家设有生产基地，在全球十一个国家设有销售和服务中心。
应特格公司主要服务于半导体制造业，是一家材料整合管理公司。作为全球材料整合管理界的先行者，应特格为半导体制造提供包括纯化过滤、流体传送、芯片及其他关键材料的保护和传送等方面的产品及服务。应特格公司以其高性能的产品及技术成为世界半导体厂商、设备制造商及材料供应商长期合作伙伴。
应特格公司凭借着在材料科学及分子污染控制领域的技术优势，帮助客户提高技术水平及产品成品率，包括半导体制造工艺中的光刻、湿法蚀刻、化学机械研磨、化学气相沉积、晶片处理与贮运、测试及封装等。
液体光化学过滤器专为使用点 (PoU) 光刻工艺中的去离子水应用而设计。小巧的胶囊外形和干净的膜/支撑/外壳材料可在 > 28 nm 节点应用中提供高纯度污染物去除性能。
为超纯气体系统过滤提供卓越的颗粒过滤，是高温和动压应用的理想选择。
最先进的外壳组件通过最小化焊接面积来消除排气
全金属结构非常适合高温和动压应用
紧凑的尺寸和灵活的配件选择提供了极致的设计效率并最大限度地降低了工程成本
应用
Wafergard® III NF Micro XL 在线气体过滤器应用
超纯气体管线
高温应用
新工厂建设
动压应用
惰性气体和活性气体
产品规格
材料 滤芯 烧结镍膜过滤器
住房 电抛光 VAR316L 不锈钢外壳
下游清洁度 粒子 <0.03 颗粒/升 (<1 颗粒/立方英尺) >0.01 微米
挥发物 H2O、O2和THC的挥发性释气量低于可检测限（室温下通过 RGA 和 FID 测定）
移除评级 ≥0.0015微米
内部表面光洁度 ≤5μin Ra
氦气泄漏等级 合格的 2×10 -10大气压-立方厘米/秒
已测试 1×10 -9个大气压-立方厘米/秒。
最高工作条件： 最大入口压力 20°C (68ºF) 时为 20 MPa (200 bar, 2900 psid)
设计压力 20°C (68ºF) 时为 20 MPa (200 bar, 2900 psid)
最大正向/反向压差 1 兆帕（10 巴，150 磅/平方英寸）
最高工作温度 惰性气体 400°C (725°F) @ 35 巴 (500 psi)
腐蚀性和活性气体 50°C (122°F) @ 70 巴 (1000 psi)
保修单 5 年
颗粒保留 在 15 slpm 下，可去除所有颗粒物 99.9999999% (9 LRV) 以上
流量等级 参考性能数据